工業超純水設備主要是為了研制超純材料(半導體元件材料、納米精細陶瓷材料等)去離子化、反滲透技術、應用蒸餾或其它適當的超臨界精細技術生產出來的水。

純水處理技術：超純水設備在純凈水期間采用了預處理、超濾、微濾、反滲透、常規混床、EDI、核能極精拋光混床等工藝流程。

超純水設備的主要用途：

1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗。

2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水。

4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑清洗用純水。

5、液晶顯示器的生產、平面需用純水清洗及純水配液。

6、晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。

7、集成電路生產中高純水清洗硅片、高品質顯像管、熒光粉生產。

8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

9、LCD、LED液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。

10、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料、實驗室和中試車間。